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- 000 01466nam0 2200313 450
- 010 __ |a 978-7-03-040034-5 |d CNY58.00
- 100 __ |a 20160622d2014 em y0chiy50 ea
- 200 1_ |a 纳米级CMOS超大规模集成电路可制造性设计 |b 专著 |f (美)Sandip Kundu,(印)Aswin Sreedhar著 |g 王昱阳,谢文遨译 |9 na mi ji CMOS chao da gui mo ji cheng dian lu ke zhi zao xing she ji
- 210 __ |a 北京 |c 科学出版社 |d 2014
- 215 __ |a 11,261页 |c 图 |d 24cm
- 305 __ |a 麦格劳-希尔(亚洲)教育出版出版公司授权出版
- 306 __ |a 麦格劳-希尔(亚洲)教育出版出版公司和中国科技出版传媒股份有限公司合作出版
- 312 __ |a 英文原名:Nanoscale CMOS VLSI circuits design for manufacturability
- 330 __ |a 本书内容包括:CMOSVLSI电路设计的技术趋势;半导体制造技术;光刻技术;工艺和器件的扰动和缺陷分析与建模;面向可制造性的物理设计技术;测量、制造缺陷和缺陷提取;缺陷影响的建模和合格率提高技术;物理设计和可靠性;DFM工具和DFM方法等。
- 510 1_ |a Nanoscale CMOS VLSI circuits design for manufacturability |z eng
- 606 0_ |a 纳米材料 |x CMOS电路 |x 超大规模集成电路 |x 电路设计 |j 教材
- 701 _0 |c (美) |a 坤社 |c (Kundu, Sandip) |4 著 |9 kun she
- 701 _0 |c (印) |a 斯里达尔 |c (Sreedhar, Aswin) |4 著 |9 si li da er
- 702 _0 |a 王昱阳 |4 译 |9 wang yu yang
- 702 _0 |a 谢文遨 |4 译 |9 xie wen ao
- 801 _0 |a CN |b YNNI |c 20160624
- 905 __ |a YNNI |d TN432.02/4534