MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：27
- 题名/责任者:
- 集成电路与光刻机/王向朝，戴凤钊等著
- 出版发行项:
- 北京:科学出版社,2020
- ISBN及定价:
- 978-7-03-065792-3/CNY58.00
- 载体形态项:
- 133页:图，照片;21cm
- 个人责任者:
- 王向朝 (光学) 著
- 个人责任者:
- 戴凤钊 著
- 学科主题:
- 集成电路
- 学科主题:
- 光刻设备
- 中图法分类号:
- TN4
- 中图法分类号:
- TN305.7
- 一般附注:
- 国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”支持
- 提要文摘附注:
- 本书共8章，主要内容包括：集成电路发展历程、集成电路制造工艺、光刻机技术的发展、光刻机整机系统、光刻机曝光光源、光刻机关键分系统、计算光刻、光刻机成像质量的提升。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TN4/1024 | 06001535968 |  雨花密集存本库
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阅览 | 雨花密集存本库 | |
| TN4/1024 | 06001535969 | 雨花理科图书室
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可借 | 雨花理科图书室 | |
| TN4/1024 | 06001535970 | 雨花理科图书室
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可借 | 雨花理科图书室 |
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