| 暂存书架(0) | 登录



MARC状态:审校 文献类型:规范文档 浏览次数:21

题名/责任者:
应用光学/赵存华,丁超亮编著
出版发行项:
北京:电子工业出版社,2017
ISBN及定价:
978-7-121-30958-8/CNY45.00
载体形态项:
237页:图;26cm
个人责任者:
赵存华 编著
个人责任者:
丁超亮 编著
学科主题:
应用光学-高等教育-教材
中图法分类号:
O439
一般附注:
普通高等教育“十三五”规划教材 光电信息科学与工程类专业规划教材
提要文摘附注:
本书以“讲座式”形式编排应用光学课程内容,每一章为一个讲座,2学时授课,全书共设计31个讲座。本书包含了应用光学的基本知识和基本理论,如理想成像理论、目视光学仪器原理、平面镜棱镜系统、光阑、光度学基础、像差理论概述和常见光学仪器等。同时,增加了部分实用性较强、与新技术和新理论有密切关系的知识,如矩阵光学、梯度折射率光学和ZEMAX软件概述等。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置
O439/4442 06001301679   雨花密集存本库     阅览 雨花密集存本库
O439/4442 06001301680   雨花理科图书室     可借 雨花理科图书室
O439/4442 06001301681   雨花理科图书室     可借 雨花理科图书室
显示全部馆藏信息
借阅趋势

同名作者的其他著作(点击查看)
用户名:
密码:
验证码:
请输入下面显示的内容
  证件号 条码号 Email
 
姓名:
手机号:
送 书 地:
收藏到: 管理书架