MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：37
- 题名/责任者:
- 薄膜技术与薄膜材料/石玉龙，闫凤英编著
- 出版发行项:
- 北京:化学工业出版社,2015
- ISBN及定价:
- 978-7-122-22618-1/CNY30.00
- 载体形态项:
- 242页:图;21cm
- 个人责任者:
- 石玉龙 (1947~) 编著
- 个人责任者:
- 闫凤英 编著
- 学科主题:
- 薄膜技术
- 学科主题:
- 薄膜-工程材料
- 中图法分类号:
- TB43
- 中图法分类号:
- TB383
- 提要文摘附注:
- 本书是笔者根据多年从事材料表面薄膜制备技术的科研和教学经验编写而成，共4章，分别阐述了材料表面防护装饰膜层的物理气相沉积技术(包括真空蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀镀膜)，化学气相沉积技术(包括简单的CVD相关理论、设备装置、CVD种类等)，硬膜及超硬膜的制备技术(金刚石膜、类金刚石膜、立方氮化硼膜、CNx膜及氮化物、碳化物、氧化物薄膜及复合薄膜等)，以及利用化学、电化学反应在材料表面制备膜层的技术(包括化学镀、化学氧化、钝化、磷化，电镀、阳极氧化、微弧氧化等内容)。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TB43/1014 | HS701805 |  生化学院资料室
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在编 | 生化学院资料室 |
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