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MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：16

题名/责任者:
真空镀膜原理与技术/方应翠主编
出版发行项:
北京:科学出版社,2014
ISBN及定价:
978-7-03-039898-7/CNY38.00
载体形态项:
213页:图，照片;24cm
个人责任者:
方应翠 主编
学科主题:
真空技术-镀膜
学科主题:
真空技术
学科主题:
镀膜
中图法分类号:
TN305.8
提要文摘附注:
本书阐述了真空镀膜的应用，以及真空镀膜薄膜在基体表面生长的过程，探讨了薄膜生长的影响因素。具体介绍了真空镀膜的各种方法，包括真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀以及化学气相沉积的原理、特点、装置及应用技术等。
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索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态
TN305.8/0001 06001017289  - 雨花密集存本库     阅览
TN305.8/0001 06001017290  - 雨花理科图书室     可借
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